概述
氨(an)逃(tao)逸在(zai)線(xian)分析系(xi)統(tong)(tong)是天禹智(zhi)控自主研發新(xin)型在(zai)線(xian)監測(ce)系(xi)統(tong)(tong),該產品(pin)基于可調諧激光(guang)吸收光(guang)譜技術(TDLAS)的原理,可測(ce)量NH3、H2S、HCL、HF等氣體(ti)濃度(du)(du)。預(yu)處理系(xi)統(tong)(tong)采用熱濕法設計(ji),該系(xi)統(tong)(tong)具有靈敏度(du)(du)高、響應速度(du)(du)快、不受(shou)背景氣體(ti)干(gan)擾、非接觸式光(guang)學測(ce)量等特點,為實時準確地反映逃(tao)逸氨(an)的變(bian)化(hua)提供了可靠保(bao)證(zheng)。
產品特點
● 采用熱(re)濕取樣方法,不受現場(chang)安裝條件(jian)的限制,適用性廣,使用和維護簡單;
● 可靠的長光程(cheng)加熱(re)氣室設計;
● 超低濃度測量,分辨率(lv)可達0.1ppm;
● 高溫(wen)取(qu)(qu)樣(yang),涂層氣(qi)室,取(qu)(qu)樣(yang)損失小于0.1ppm/米;
● 免標定設計,維護簡單,使用成本低;
可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)
1.可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)
該技(ji)術主要(yao)是利(li)用(yong)可調諧半(ban)導(dao)體(ti)激光器的(de)窄線寬和波長(chang)隨注入電流改變的(de)特(te)性實現對分子的(de)單(dan)個(ge)或幾個(ge)距離很近很難分辨(bian)的(de)吸收(shou)線進行(xing)測量(liang)。
2.可調諧半導體激光吸收光譜原理
TDLAS通常是用(yong)(yong)單一(yi)(yi)窄帶(dai)的(de)激光頻率掃描一(yi)(yi)條獨立的(de)氣體吸(xi)收(shou)線(xian)。為(wei)了實現高的(de)選擇性,分析一(yi)(yi)般在(zai)低壓下進行(xing),這時吸(xi)收(shou)線(xian)不(bu)會因(yin)為(wei)壓力而加(jia)寬。這種測量方法(fa)是Hinkley和(he)Reid提出的(de),現在(zai)已(yi)經發(fa)展成(cheng)為(wei)了靈敏和(he)常用(yong)(yong)的(de)大(da)氣中痕量氣體的(de)監測技術。
3.可調諧半導體激光吸收光譜的主要特點包括
(1) 高選擇(ze)性,高分(fen)辨率的(de)光譜技(ji)術,由于分(fen)子光譜的(de)“指紋”特征,它不受其它氣(qi)體的(de)干擾。這一特性與其它方法相比有明顯(xian)的(de)優勢。
(2) 它是一種對(dui)所有在紅(hong)外有吸(xi)收的(de)(de)活躍分子都有效的(de)(de)通用技術,同(tong)樣的(de)(de)儀器可以(yi)方便(bian)的(de)(de)改(gai)成測量其(qi)它組分的(de)(de)儀器,只需要改(gai)變激光器和(he)標(biao)準氣。由于這個特點,很(hen)容易就能將其(qi)改(gai)成同(tong)時測量多組分的(de)(de)儀器。
(3) 它具有速度快,靈敏度高的(de)優點。在不(bu)失靈敏度的(de)情(qing)況下,其時間分辨率可以在ms量(liang)級。應(ying)用該技(ji)術的(de)主要領(ling)域有:分子光譜研究、工業(ye)過程監測(ce)(ce)控制、燃燒過程診(zhen)斷分析(xi)、發動機(ji)效率和機(ji)動車尾氣測(ce)(ce)量(liang)、爆炸檢測(ce)(ce)、大氣中痕量(liang)污染(ran)氣體監測(ce)(ce)等。
技術參數
技術(shu)參數(shu) |
測量(liang)原理(li) |
TDLAS |
量程 |
0-10ppm(可定(ding)制) |
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分辨(bian)率(lv) |
0.1ppm |
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重復(fu)性 |
≤1%FS |
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響應時間 |
15s |
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漂(piao)移 |
≤±1%FS |
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功能參(can)數 |
預熱時(shi)間 |
30min |
電(dian)源 |
AC 220V ±10V 50Hz |
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數字輸(shu)出 |
RS232/485、繼電器輸出 |
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模擬輸出 |
4-20mA最大負(fu)載900Ω |
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負載能力 |
AC/DC 24V/1A;濃度超限(xian)報警、透過(guo)率異常(chang)報警、激光器溫(wen)度異常(chang)報警 |
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安裝方式 |
抽取式原位安裝 |
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環境參數 |
相對濕度 |
≤90% RH,無(wu)結露 |
環(huan)境(jing)溫度 |
20~55℃ |
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采樣流量 |
≤3L/min |
典型應用
廣泛(fan)應用于燃煤發(fa)(fa)電(dian)廠(chang)(chang)、水泥廠(chang)(chang)、鋁廠(chang)(chang)、鋼鐵廠(chang)(chang)、冶(ye)煉廠(chang)(chang)、玻璃(li)廠(chang)(chang)、垃圾發(fa)(fa)電(dian)廠(chang)(chang)、化工廠(chang)(chang)等SCR或SNCR脫(tuo)硝裝置的氨(an)氣(qi)逃逸排(pai)放監測(ce)和過程控制。
“氨逃逸”指的(de)是SCR脫硝反(fan)(fan)應(ying)器出口測量出的(de)氨(an)濃度,單位ppm.因(yin)為氨(an)本(ben)身的(de)易揮發(fa)的(de)特(te)性,只要是有氨(an)參與反(fan)(fan)應(ying)的(de)場所都有揮發(fa)、都有未參與反(fan)(fan)應(ying)的(de)氨(an)的(de)存在(zai),這部分的(de)氨(an)就是所謂的(de)氨(an)逃(tao)(tao)逸.在(zai)SCR脫硝中,為了減(jian)少運行(xing)成本(ben),降低氨(an)逃(tao)(tao)逸對鍋爐(lu)下游設備的(de)腐(fu)蝕,要盡量將氨(an)逃(tao)(tao)逸控制在(zai)一(yi)定范圍內,一(yi)把SCR,反(fan)(fan)應(ying)器出口的(de)氨(an)逃(tao)(tao)逸一(yi)般(ban)不超過3ppm.
根據(ju)國家最新(xin)的標準規定,SNCR脫(tuo)銷氨逃逸(yi)標準為8mg/m3(10ppm),SCR脫(tuo)銷氨逃逸(yi)標準為2.5mg/m3(3ppm).
氨逃逸(yi)濃度3ppm等于2.28mg/m.
氨逃逸率:一般來說,為(wei)SCR脫硝和SNCR脫硝工藝出口(kou),未參(can)與(yu)還原反應(ying)的NH3與(yu)出口(kou)煙氣總量(liang)的體積占比(bi),一般計量(liang)單位為(wei)PPM, 如果用質量(liang)占比(bi),為(wei)mg/M3. 也叫氨逃逸濃度(du).
理論上脫(tuo)(tuo)硫循環液(ye)滴定度為15時(shi),脫(tuo)(tuo)硫效果(guo)是徹(che)底(di)的(de),但氨(an)(an)逃逸比較厲害,經過我們(men)實際運(yun)行(xing)經驗一(yi)般控(kong)制(zhi)在(zai)10~12個(ge)滴定度時(shi),脫(tuo)(tuo)硫效果(guo)能達(da)到98%-99% 而且氨(an)(an)逃逸較少,基本上SO2都能達(da)到國家排放(fang)標準,當然通過雙塔結構降(jiang)低(di)脫(tuo)(tuo)硫液(ye)的(de)溫度,來降(jiang)低(di)氨(an)(an)的(de)逃逸也是可(ke)以(yi)的(de)。
天禹(yu)智控,10年+以(yi)上氣體監測(ce)行業經驗,專業逃逸氨在線監測(ce)研發生產銷售服務實力廠家,自有廠房(fang),可一件代(dai)發、OEM、加工定制,量(liang)大優惠!!!歡迎咨詢。
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1. 維護期
系統完(wan)成驗收(shou)后開始,提(ti)供(gong)免費的約(yue)定(ding)質保維護周期,免費維護期滿后進入(ru)有償服務期,具體費用由雙方另行友好(hao)協商確定(ding)。
2.維護內容
(1)系(xi)統需求定(ding)義范圍內的功能上(shang)錯(cuo)誤和(he)漏(lou)洞
(2)由于系(xi)統配(pei)置的(de)(de)問題(ti)所導致的(de)(de)某些功(gong)能障(zhang)礙
(3)下列問(wen)題不在免費(fei)維(wei)護(hu)范圍(wei)內
a.由(you)于用(yong)戶自行修改產(chan)品所造成的錯誤
b.由于(yu)連(lian)入到本系統(tong)(tong)中的其他(ta)現有(you)應(ying)用系統(tong)(tong)所出現的錯誤,或因(yin)其他(ta)應(ying)用系統(tong)(tong)的修改/變(bian)動對本系統(tong)(tong)所產(chan)生的影響(xiang)及(ji)錯誤。
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